Trong PVD (lắng đọng hơi vật lý) Thiết bị phủ chân không, công nghệ phủ ion thuần túy là một quá trình tiên tiến và sáng tạo cao mang lại các cải tiến hiệu suất chưa từng có cho xử lý bề mặt vật liệu. Đó là một động lực cho sự đổi mới của thiết bị phủ chân không PVD.
I. Nguyên tắc làm việc
Công nghệ phủ ion tinh khiết hoạt động trong môi trường chân không cao. Nó ion hóa vật liệu phủ bằng nguồn ion và lọc các hạt trung tính và các hạt siêu nhỏ trong plasma được tạo ra bởi nguồn ion. Độ tinh khiết của ion là gần 100%và tốc độ ion lắng đọng ion sau khi lọc gần 100%.
Dưới sự gia tốc của điện trường, các ion bắn phá bề mặt cơ chất ở tốc độ cao, đạt được sự lắng đọng ở cấp độ nguyên tử. Không giống như các công nghệ phủ truyền thống, trong quá trình phủ ion tinh khiết, năng lượng và hướng của các ion có thể được kiểm soát chính xác để đảm bảo lớp phủ đồng đều và độ bám dính mạnh mẽ với chất nền.
Ii. Lợi thế kỹ thuật
· Độ bám dính tuyệt vời: Sự bắn phá năng lượng cao của các ion tạo thành liên kết hóa học mạnh giữa lớp phủ và chất nền, tăng cường đáng kể độ bám dính của lớp màng, đảm bảo rằng nó không rơi ra ngay cả trong điều kiện khắc nghiệt.
· Lớp màng đồng đều cao: Kiểm soát chính xác quỹ đạo và phân bố năng lượng của các ion đảm bảo độ bao phủ đồng đều của lớp màng trên bề mặt cơ chất với độ lệch độ dày tối thiểu.
· Lựa chọn vật liệu lớp phủ đa dạng: Hầu như tất cả các kim loại, hợp kim và một số vật liệu gốm có thể được sử dụng làm vật liệu phủ, đáp ứng nhu cầu của các kịch bản ứng dụng khác nhau.
· Mức năng lượng thân thiện với môi trường và tiết kiệm năng lượng: Toàn bộ quá trình được thực hiện trong môi trường chân không, không có nước thải hoặc khí thải khí thải. Đồng thời, mức tiêu thụ năng lượng thấp, phù hợp với các khái niệm sản xuất xanh hiện đại.
Iii. Khu vực ứng dụng
· Hàng không vũ trụ: Được sử dụng để xử lý bề mặt các bộ phận máy bay để cải thiện khả năng chống mài mòn, khả năng chống ăn mòn và khả năng chống nhiệt độ cao, kéo dài tuổi thọ dịch vụ của chúng.
· Thông tin điện tử: Phim dẫn điện, cách điện hoặc bảo vệ trên bề mặt của chip, thiết bị bán dẫn, v.v., tăng cường hiệu suất và độ tin cậy của các thành phần điện tử.
· Sản xuất ô tô: Áp dụng cho các thành phần động cơ ô tô, bánh xe, v.v., tăng cường độ cứng và khả năng chống mài mòn, cải thiện hiệu suất chung của xe.
· Các thiết bị y tế: Cung cấp lớp phủ tương thích sinh học, kháng khuẩn và chống ăn mòn cho các dụng cụ phẫu thuật, cấy ghép, v.v., đảm bảo an toàn y tế.
Iv. Xu hướng phát triển công nghệ
Với sự tiến bộ liên tục của công nghệ, công nghệ phủ ion thuần túy sẽ phát triển theo độ chính xác cao hơn, xử lý chất nền lớn hơn và tích hợp với các công nghệ tiên tiến khác. Trong tương lai, dự kiến sẽ đóng một vai trò quan trọng trong các trường tiên tiến như thiết bị lượng tử và vật liệu nano, thúc đẩy sự xuất hiện của các ứng dụng sáng tạo hơn.
Với những ưu điểm độc đáo, công nghệ phủ ion thuần túy giữ một vị trí quan trọng trong thiết bị phủ chân không PVD, cung cấp hỗ trợ kỹ thuật mạnh mẽ để cải thiện hiệu suất vật liệu và đổi mới sản phẩm trong các ngành công nghiệp khác nhau.
